澳门新葡京娱乐-澳门葡京网站-新葡京【最新】官网

微电子与半导体装备

微电子与半导体装备

中国[澳门新葡京娱乐]48所半导体工艺设备事业部专注于微电子与半导体装备的研发和制造,设备涵盖薄膜制备、掺杂、刻蚀、烧结、激光焊接等领域,是四十八所半导体设备研发的核心力量。目前研发设备已广泛应用于电子、船舶、兵器

  • MOCVD

    MOCVD

    以Ⅲ族(Ⅱ族)元素的有机化合物和Ⅴ族(Ⅵ族)元素的氢化物等作为晶体生长源材料,以热分解反应方式在衬底上进行气相外延,生长各种Ⅲ-Ⅴ族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体以及它们的多元固..

    查看详情
  • SiC外延设备

    SiC外延设备

    第三代宽紧带半导体SiC材料的同质外延生长。

    查看详情
  • 平板PECVD

    平板PECVD

    主要应用于SiO2和SiNx材料的薄膜沉积生长,具有体积小、操作灵活等优点。其工作原理是在低压引入高频,采取电容耦合方式使工艺气体辉光放电,形成等离子体状态,产生大量的活..

    查看详情
  • LPCVD

    LPCVD

    化学气相淀积是半导体集成电路制造的重要工序之一,主要用于多晶硅、氮化硅、氧化硅薄膜的生长。它是将原材料气体(或者液态源气化)用热能激活发生化学反应而在基片表面生成..

    查看详情
  • 液相外延设备

    液相外延设备

    适用于Ⅲ-Ⅴ族(或Ⅱ-Ⅵ族)化合物材料的生长,如光电子器件制造过程中化合物半导体薄膜的液相外延生长,是光电子器件研制、生产的关键工艺装备。

    查看详情
  • 磁控溅射沉积设备(科研生产型)

    磁控溅射沉积设备(科研生产型)

    磁控溅射设备是一种多功能、高效率的镀膜设备。可以在陶瓷、玻璃、石英、硅片等基底材料上溅镀金属、非金属、氧化物、介质等材料的薄膜,如:Au、Al、NiCr、TiW、Si、Al2O3、Si3N4、ZnO、ITO..

    查看详情
360网站安全检测平台