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微电子与半导体装备

微电子与半导体装备

中国[澳门新葡京娱乐]48所半导体工艺设备事业部专注于微电子与半导体装备的研发和制造,设备涵盖薄膜制备、掺杂、刻蚀、烧结、激光焊接等领域,是四十八所半导体设备研发的核心力量。目前研发设备已广泛应用于电子、船舶、兵器

  • 磁控溅射沉积设备(连续生产Ⅰ)

    磁控溅射沉积设备(连续生产Ⅰ)

    磁控溅射设备是一种多功能、高效率的镀膜设备。可以在陶瓷、玻璃、石英、硅片等基底材料上溅镀金属、非金属、氧化物、介质等材料的薄膜,如:Au、Al、NiCr、TiW、Si、Al2O3、Si3N4、ZnO、ITO..

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  • 磁控溅射沉积设备(连续生产Ⅱ)

    磁控溅射沉积设备(连续生产Ⅱ)

    磁控溅射设备是一种多功能、高效率的镀膜设备。可以在陶瓷、玻璃、石英、硅片等基底材料上溅镀金属、非金属、氧化物、介质等材料的薄膜,如:Au、Al、NiCr、TiW、Si、Al2O3、Si3N4、ZnO、ITO..

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  • 离子束溅射沉积设备

    离子束溅射沉积设备

    本设备是根据溅射原理,在真空条件下,利用低能聚焦离子束轰击靶材表面,溅射的靶材淀积到基片表面,形成薄膜的溅射镀膜(淀积)设备。设备主要用于微电子器件制造和薄膜材料..

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  • 等离子体刻蚀机

    等离子体刻蚀机

    等离子体刻蚀(ICP)是指利用能与被刻蚀材料起化学反应的气体,通过辉光放电使之形成低温等离子体,对样品表面未被掩蔽部分进行腐蚀。是利用活性离子与衬底的化学反应的进行..

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  • 反应离子刻蚀机

    反应离子刻蚀机

    反应离子刻蚀(RIE)是利用射频放电使反应气体电离产生活性离子,利用活性离子与工件表面材料进行化合生成挥发性产物被真空泵抽走,从而实现对工件表面材料的去除,属干法..

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  • 离子束刻蚀机

    离子束刻蚀机

    离子束刻蚀是根据溅射原理,利用离子源引出的离子束,直接轰击工件,将工件上未被掩膜遮蔽的部分材料溅射出来,实现材料去除的目的。离子束刻蚀是纯物理刻蚀过程,在各种常..

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